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| 基本信息 | |
| 【中文】 四甲基氢氧化铵 |
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| 【英文名称】 N,N,N-TRIMETHYLMETHANAMINIUM HYDROXIDE TETRAMETHYLAMMONIUM HYDROXIDE TMAH hydroxydedetetramethylammonium megapositcd14 Methanaminium,N,N,N-trimethyl-,hydroxide n,n,n-trimethyl-methanaminiuhydroxide nmd3 nmw-w ocg945 tetramethyl-ammoniuhydroxide tetramethylammoniumhydroxide,10%solutioninwater tetramethylammoniumhydroxide,solution TETRAME-AMMONIUMHYDROXIDE/H20 Tetramethyl ammonium Tetramethylaminonium hydroxide TETRAMETHYLAMMONIUM HYDROXIDE, 10 WT. % SOLUTION IN WATER TETRAMETHYLAMMONIUM HYDROXIDE SOL., 6% IN PROPYLENEGLYCOL TETRAMETHYLAMMONIUM HYDROXIDE, 1.0M SOLN . IN H2O, A.C.S. REAGENT TETRAMETHYLAMMONIUM HYDROXIDE SOLUTION, ~10% IN WATER |
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| 【CAS】 75-59-2 |
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| 【中文名称】 四甲基氢氧化铵 四甲基氢氧化铵溶液 四甲基氢氧化铵，溶液 四甲基氫氧胺 (顯影液) 氫氧化四甲銨 四甲基氢氧化铵 四甲基氢氧化铵, 25% W/W AQ. SOLN., ELECTRONIC GRADE, 99.99 四甲基氢氧化铵, 25% W/W IN METHANOL 氢氧化四甲基胺,1.0M水溶液,ACS 氢氧化四甲基胺, 2.38% W/W AQ. SOLN., ELECTRONIC GRADE, 99. 四甲基氢氧化铵, 25% W/W AQ. SOLN. |
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| 【EINECS 编号】 200-882-9 |
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| 【分子式】 C4H13NO |
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| 【MDL 编号】 MFCD00008280 |
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| 【分子量】 91.15 |
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| 【MOL 文件】 75-59-2.mol |
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| 物理化学性质 | |
| 【外观性状】无色结晶（常含三、五等结晶水），熔点68-71℃，极易吸潮，在空气中能迅速吸收二氧化碳，130℃时分解为甲醇和三甲胺，通常使用有10％；25％水（或醇）溶液和含结晶水化合物。 | |
| 【熔点 】°C | |
| 【沸点 】110 °C | |
| 【密度 】0.866 g/mL at 25 °C | |
| 【蒸气压】17.5 mm Hg ( 20 °C) | |
| 【折射率 】n 20/D 1.384 | |
| 【闪点 】80 °F | |
| 【储存条件 】2-8°C | |
| 【敏感性 】Air Sensitive | |
| 【Merck 】14,9224 | |
| 【BRN 】3558708 | |
| 常见问题列表 | |
| 【产品描述】四甲基氢氧化铵(Tetramethyl ammonium hydroxide,TMAH)又称为氢氧化四甲铵、四甲基氢氧化胺,无色至淡黄色液体,是最强的有机碱，极易吸潮，有一定的氨气味，在空气中能迅速吸收二氧化碳，在室温下其蒸汽压较低，在135~145℃完全分解气化，高纯品在140℃低温处理也无微量残渣。四甲基氢氧化铵溶液无色透明有微氨臭，1（wt）％溶液PH值为12.9，是与苛性碱同等强度的强碱。将四甲基氢氧化铵水溶液在减压下浓缩可得到5个结晶水的吸湿性针状结晶，再继续浓缩脱水变成3个结晶水的结晶，再变成1个结晶水的四甲基氢氧化铵，在135～140°C分解为三甲胺和二甲基醚，通常制10%、25%的水溶液。 | |
| 【制备工艺】四甲基氢氧化铵的制备方法很多，一般采用氧化银法，通过四甲基氯化铵与氧化银反应生成。但该法制备四甲基氢氧化铵的工艺复杂，原料氧化银价格昂贵，而且所得产品含较高的杂质离子，如卤素离子、碱金属离子等，用于有机硅单体催化聚合时，严重影响有机硅产品特性，更无法满足电子领域清洗和腐蚀的要求。 国外从七十年代开始采用电解法制备四甲基氢氧化铵的新工艺，并逐步取代氧化银法。用电解法制得的产品质量较好，成本低，不仅能满足有机硅生产的需要，而且进入了电子工业领域。 | |
| 应用领域 | |
| 【用途一】用作极谱分析试剂 | |
| 【用途二】用作计算机硅片面的光亮剂、触刻剂等 | |
| 【用途三】在电子行业中，广泛用作硅晶片蚀刻剂、清洗剂、正胶显影剂等 | |
| 安全数据 | |
| 【危险品标志 】C,T,F | |
| 【危险类别码 】R24/25-R34-R20/21/22-R39/23/24/25-R23/24/25-R10-R21/22-R25-R21-R11-R67-R36 | |
| 【安全说明 】S45-S36/37/39-S26-S16-S36/37 | |
| 【危险品运输编号 】UN 3286 3/PG 2 | |
| 【WGK Germany 】1 | |
| 【RTECS 】PA0875000 | |
| 【F 】4.4-10-34 | |
| 【危险等级】3 | |
| 【包装类别】II | |
| 【海关编码】29239000 | |
| 上下游产品信息 | |
| 【下游产品】二甲基硅油-->107室温硫化硅橡胶-->聚二甲基硅氧烷 | |
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