12033-89-5-常用CAS信息-山东胜蓝化工科技有限公司

基本信息
【中文】氮化硅
【英文名称】 SI3N4 B7 SI3N4 M11 SILICON (IV) NITRIDE SILICON (IV) NITRIDE ALPHA PHASE Silicon IV nitride Powder SILICON NITRIDE Siliconnitridemeshlightgraypowder Siliconnitridepowderprimarilyphase trisilicon tetranitride SILICON NITRIDE, NANOPOWDER, 98.5+% SILICON NITRIDE, POWDER, SUBMICRON, 99.9 +% SILICON NITRIDE, -325 MESH, PREDOMINANTL Y ALPHA-PHASE SILICON NITRIDE, -325 MESH, PREDOMINANTL Y BETA-PHASE SILICON NITRIDE, NANOPOWDER, 98+% SILICON NITRIDE B-PHASE SILICON NITRIDE A-PHASE Silicon(IV)nitride,<5micron(99%-Si) silicon (iv) nitride, amorphous silicon(iv) nitride, electronic grade MILLEDSILICONNITRIDE
【CAS】 12033-89-5
【中文名称】氮化硅四氮化三硅四氮化三硅氧化镁粘结型氮化硅溅射靶氮化硅粉末氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18M 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 6.35M 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) DIA X 3.18M 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶T, 76.2MM (3.0IN) DIA X 6.35 氮化硅(IV), AMORPHOUS, 96+% 氮化硅(IV), ELECTRONIC GRADE, 99.85% (METALS BASIS), 94% ^ 氮化硅(IV), ^A-PHASE, 99.9% (METALS BASIS) 氮化硅(IV), 99.3% (METALS BASIS), TYPICALLY 90% ^B-PHASE 氮化硅(IV), ^A-PHASE
【EINECS 编号】 234-796-8
【分子式】 N4Si3
【MDL 编号】 MFCD00011230
【分子量】 140.28
【MOL 文件】 12033-89-5.mol
【所属类别】无机化工产品: 无机盐: Cn硅化合物及硅酸盐

物理化学性质
【外观性状】灰白色α晶型粉末。由于它具有金刚石型三维晶格结构，所以具有高温热稳定性、抗热震性、化学稳定性和良好的电绝缘性及质硬性。氮化硅熔点1900℃，相对密度3.44。在空气中加热到1450～1550℃仍稳定。易溶于氢氟酸，不溶于冷、热水及稀酸，对于浓硫酸和浓氢氧化钠溶液作用也极缓慢。
【熔点】1900 °C
【密度】3.44 g/mL at 25 °C(lit.)
【form 】powder
【Merck 】14,8497

应用领域
【用途一】主要用作功能陶瓷材料原料，非铁金属的耐熔材料，飞机引擎，燃气输机喷嘴、轴承等高温结构材料和耐热涂层
【用途二】氮化硅粉末作为工程陶瓷材料，在工业上有广泛用途。主要用于超高温燃气透平，飞机引擎，透平叶片，热交换器，电炉等。也可作耐热涂层，用于火箭和原子能反应堆。
【用途三】主要用作功能陶瓷材料原料，非铁金属的耐熔材料，飞机引擎，燃气输机喷嘴、轴承等高温结构材料和耐热涂层以及研磨、切削、电炉等的材料。
【参考质量标准】日本部分公司工程陶瓷用氮化硅粉末参考标准 ▼ ▲ 指标名称电气化工有限公司SN-9指标 Starek社LG-l2指标东芝陶瓷有限公司Grade A指标 Si/％ 59.0 游离Si＜0.1 59.2 N/％ 37.5 1 37.8 Fe/％ 0.78 0.02 0.007 Al/％ 0.32 0.03 0.002 Ca/％ 0.21 0.01 0.007 C/％ 1 0.18 0.9 O/％ 1 1.50 1.8 α含有率 91 ＞90 93 平均粒径/μm 1.3 0.5 1.0 比表面积/(m >2^/g) 44 23 6.5 制法 Si直接氮化法同左 SiO2还原法

安全数据
【危险品标志】Xi
【危险类别码】R37
【安全说明】S22-S24/25
【WGK Germany 】3
【F 】10
【TSCA 】Yes

制备方法

【方法一】主要有硅粉直接氮化法、二氧化硅还原法和氯化硅法。在大规模工业生产中，二氧化硅还原法更为人们所重视。二氧化硅还原法二氧化硅粉末100份(重量份，下同)，混入炭黑35份，尿素树脂100份，然后加入800份水、0.1份氧化铝(作反应核用)、1份草酸铵和0.3份非离子表面活性剂(作分散剂)，进行强搅拌，并在搅拌中加入氨水调整Ph值为9.0。将此混合好的料浆喷雾干燥，所得干燥物在电炉中，在氮气氛中，在1480℃进行3 h氮化还原反应。再将还原反应产物于。720℃，在空气中进行脱炭处理，制得氮化硅粉末成品。SiO2+C→SiO+CO3SiO2+3C+N2→Si3N4+3CO

上下游产品信息
【上游原料】尿素-->氧化铝-->炭黑-->二氧化硅-->硅-->四氯化硅
【下游产品】碳化硅

常用CAS信息

12033-89-5

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